TMEC – NECTEC : National Electronics and Computer Technology Center

สอวช. เยี่ยมชม TMEC หารืองานวิจัย Semiconductor ecosystem

Sasiwipar Hasuk — Fri, 12 Jan 2024 10:12:44 +0000

เนคเทค สวทช. โดย ศูนย์เทคโนโลยีไมโครอิเล็กทรอนิกส์ (TMEC) ให้การต้อนรับ คุณนนทวัฒน์ มะกรูดอินทร์ ผู้อำนวยการฝ่ายศูนย์ข้อมูลนโยบายด้านการอุดมศึกษา วิทยาศาสตร์ วิจัยและนวัตกรรม (สอวช.) พร้อมคณะผู้เชี่ยวชาญ จำนวน 6 ท่าน ในโอกาสเข้าเยี่ยมชมและรับฟังการดำเนินงานวิจัยพัฒนา โดยมี ดร.วุฒินันท์ เจียมศักดิ์ศิริ นักวิจัยอาวุโส ดร.นิภาพรรณ กลั่นเงิน นักวิจัย TMEC คุณสิรินทร อินทร์สวาท ผู้อำนวยการฝ่ายพัฒนาเครือข่ายเชิงกลยุทธ์และประเมินผล และคุณศิริพร ปานสวัสดิ์ ผู้จัดการงานประชาสัมพันธ์ เนคเทค ร่วมต้อนรับ เมื่อวันที่ 9 มกราคม 2567 ณ ศูนย์เทคโนโลยีไมโครอิเล็กทรอนิกส์ (TMEC) จ. ฉะเชิงเทรา

ในโอกาสนี้ ดร.วุฒินันท์ ได้แนะนำภาพรวมการดำเนินงานของ TMEC และการดำเนินงานวิจัยพัฒนาเทคโนโลยีที่เกี่ยวข้องในอุตสาหกรรมสารกึ่งตัวนำ พร้อมทั้งนำชมห้อง Cleanroom รวมถึงผลงานที่เกี่ยวข้อง Semiconductor ecosystem โดยมีทีมนักวิจัย TMEC ให้การต้อนรับร่วมนำเสนอผลงานได้แก่

การออกแบบวิเคราะห์และประเมินผลการทำงานของอุปกรณ์จากกระบวนการผลิต โดย คุณวิทวัส แย้มวงษ์ หัวหน้าทีมวิจัย DSC และดร.จิรวัฒน์ ปราบเขต นักวิจัย
นวัตกรรมพื้นผิววัสดุและอุปกรณ์ไมโครฟูลอิดิก โดย ดร.นิธิ อัตถิ หัวหน้าทีมวิจัย SMD-1 และคุณวิศรุต ศรีพุ่มไข่ นักวิจัย
เทคโนโลยีอิสเฟต โดย ดร.วิน บรรจงปรุ หัวหน้าทีมวิจัย ISF และคุณณัฐพัชร์ เหลืองจิรโณทัย นักวิจัย
กระบวนการผลิตซิลิกอน โดย ดร.จักรพงศ์ ศุภเดช หัวหน้าทีมวิจัย SPT
เทคโนโลยีเมมส์ โดย ดร.ชนะ ลีภัทรพงศ์พันธ์ นักวิจัยทีม MEMS

การหารือในครั้งนี้ได้ร่วมแลกเปลี่ยนข้อมูลการดำเนินงานของ TMEC และ สอวช. เพื่อศึกษาสถานภาพ ความพร้อม และความต้องการด้านงานวิจัยและพัฒนา โครงสร้างพื้นฐานด้านวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยี รวมถึงสรุปข้อค้นพบสำหรับการพัฒนาอุตสาหกรรมสารกึ่งตัวนำในประเทศไทย เพื่อสนับสนุนการจัดทำแผน นโยบาย และการออกแบบมาตรการกลไกด้านวิทยาศาสตร์ วิจัย และนวัตกรรม (ววน.) ของหน่วยนโยบายต่อไป ซึ่งจะมีการหารือเพิ่มเติมผ่านการประชุมออนไลน์ในภายหลัง

ศูนย์เทคโนโลยีไมโครอิเล็กทรอนิกส์ (TMEC)

Sasiwipar Hasuk — Mon, 01 Mar 2021 00:00:30 +0000

ศูนย์เทคโนโลยีไมโครอิเล็กทรอนิกส์ (Thai Microelectronics Center : TMEC) เป็นหน่วยวิจัยภายใต้ศูนย์เทคโนโลยีอิเล็กทรอนิกส์และคอมพิวเตอร์แห่งชาติ ซึ่งมีเทคโนโลยีหลักคือกระบวนการผลิตเซนเซอร์และอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์บนแผ่นซิลิกอน โดยมีทีมวิจัยหลัก 3 ทีม ซึ่งการจัดตั้งทีมแบ่งตามกิจกรรมหลักที่รับผิดชอบ ดังนี้

ทีมวิจัยเชิงอุตสาหกรรมบนซิลิกอนเทคโนโลยี (SIFRT) ดูแลงานทางด้าน ระบบเครื่องกลไฟฟ้าจุลภาค (Micro Electro-Mechanical System) หรือ เมมส์ (MEMS) งานด้านการผลิตเซนเซอร์ทางเคมีและชีวภาพบนเทคโนโลยีแพลตฟอร์มอีสเฟต (ISFET Platform) และ งานบริการด้านการสร้างต้นแบบ (Wafer level Sensor Prototyping) และการผลิตขนาดเล็ก (Small Volume Production)
ทีมวิจัยการออกแบบวิเคราะห์และประเมินผลการทำงานของอุปกรณ์จากกระบวนการผลิต (DSCRT) ทีมวิจัยนี้สนับสนุนการออกแบบอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ใหม่ที่ผลิตในทีเมค เพื่อให้เกิดผลิตภัณฑ์ ใหม่ รวมทั้ง พัฒนาเซนเซอร์และอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ ผ่านการจำลองทางคณิตศาสตร์ รวมถึงการสนับสนุนการทดสอบอุปกรณ์ที่สร้างขึ้นเพื่อวัดคุณภาพของสินค้าที่ส่งมอบ
ทีมวิจัยนวัตกรรมพื้นผิววัสดุและอุปกรณ์ไมโครฟลูอิดิก (SMD-1RT) มีหน้าที่ในการผลักดันต้นแบบให้กลายเป็นผลิตภัณฑ์ โดยร่วมมือกับพันธมิตรภาครัฐและเอกชนทั้งในและต่างประเทศ โดย ณ ปัจจุบัน ทีมวิจัยมีเป้าหมายในการผลักดัน แลป ออน ดิสก์ สำหรับงานทางด้านการแพทย์ และฟิล์มไม่ชอบน้ำอย่างยิ่งยวด (Superhydrophobic) พื้นที่ขนาดใหญ่

วิสัยทัศน์

สร้างเทคโนโลยีและสนับสนุนให้เกิดอุตสาหกรรม ที่เกี่ยวข้องกับกระบวนการผลิตอุปกรณ์เซนเซอร์ (Sensors) อุปกรณ์เมมส์ (MEMS) และ อุปกรณ์อื่นๆ ที่สามารถผลิตบนเทคโนโลยีไมโครอิเล็กทรอนิกส์ อย่างยั่งยืน

พันธกิจ

วิจัย พัฒนา และผลิต อุปกรณ์เมมส์ (MEMS) (ทีมวิจัยที่ดูแล : SIFRT)
วิจัย พัฒนา และผลิต แพลตฟอร์มสำหรับเซนเซอร์ทางเคมีและชีวภาพ (Bio- and Chemical Sensors) (ทีมวิจัยที่ดูแล : SIFRT)
วิจัย และ พัฒนา อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์และวงจรรวม (Integrated Circuits) ที่เกี่ยวข้องกับเซนเซอร์ขั้นสูง (Advanced Sensors) และ อุปกรณ์เมมส์ (MEMS) (ทีมวิจัยที่ดูแล : DSCRT)
วิจัย พัฒนา และผลิต เทคโนโลยีพื้นผิว (Surface Technology) และอุปกรณ์ไมโครฟลูอิดิก (Microfluidic Devices) (ทีมวิจัยที่ดูแล : SMD-1RT)
ผลักดันให้เกิดสินค้านวัตกรรมที่เกิดจากการใช้เทคโนโลยีของทีเมคให้เป็นสินค้าถึงมือผู้ใช้งานได้ โดยสร้างความร่วมมือกับภาคเอกชน ภาครัฐ และหน่วยงานต่างๆ (TMEC)
ส่งเสริมให้เกิดระบบนิเวศ (Ecosystem) ของเซนเซอร์ (`Sensors) ขั้นสูงและอุปกรณ์เมมส์ (MEMS)

เทคโนโลยีของหน่วยวิจัย

กระบวนการผลิตในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์
กระบวนการผลิตเซนเซนร์ด้วยเทคโนโลยีไมโครอิเล็กทรอนิกส์
ระบบเครื่องกลไฟฟ้าขนาดจุลภาค หรือ เมมส์
เทคโนโลยีฐานไอออนเซนซิทิฟฟีลด์เอฟเฟคทรานซิสเตอร์ หรือ อีสเฟต
กระบวนการออกแบบ การสร้างแบบจำลองคณิตศาสตร์ และกระบวนการสร้างแม่แบบซิลิกอน และลอกแบบลวดลายจุลภาคด้วยเทคนิคซอล์ฟลิโธรกราฟี เพื่อสร้างนวัตกรรมบนพื้นผิววัสดุ
อุปกรณ์ไมโครฟลูอิดิก รวมถึงห้องปฏิบัติการย่อส่วนบนชิปและบนแผ่นดิสก์
การสร้างพื้นผิวน้ำและน้ำมันไม่เกาะแบบยิ่งยวด เพื่อให้เกิดคุณสมบัติป้องกันการเกาะของสิ่งมีชีวิตบนพื้นผิววัสดุ สำหรับการใช้งานในสภาวะแวดล้อมต่างๆ

ผลิตภัณฑ์

ระบบเซ็นเซอร์เพื่อการเกษตร (เกษตรยุคใหม่) ปัจจุบันอุตสาหกรรมหลายๆ ด้าน มีการใช้อุปกรณ์ ระบบอิเล็กทรอนิกส์ และเซ็นเซอร์ต่างๆ มาช่วยทำให้การผลิตเกิดประสิทธิภาพและประสิทธิผลมากขึ้น รวมทั้งได้ใช้เซ็นเซอร์มาช่วยทำให้เกิดระบบอัจฉริยะที่สามารถประเมินผลและควบคุมตนเองได้ด้วยการส่งและรับข้อมูลต่างๆ จากทุกสิ่งที่เชื่อมต่อเข้าหากัน หรือ IOT (Internet Of Things) ซึ่ง TMEC ได้ร่วมพัฒนาและวิจัยเซ็นเซอร์ Ion Sensitive Field Effect Transistor (ISFET หรือ เซนเซอร์ที่ใช้วัดความเข้มข้นของไอออนของสารเคมี) Pressure Sensor (เซ็นเซอร์วัดความดัน) Humidity Sensor (เซ็นเซอร์วัดความชื้น) Solar Tracker Sensor (เซ็นเซอร์ตามหาแสงอาทิตย์) เป็นต้น

หัววัดความชื้นในอากาศ (Humidity Sensor) Humidity Sensor ผลิตโดยเทคโนโลยี CMOS มาตรฐาน ที่สามารถผลิตได้เพียงแห่งเดียวในประเทศไทย โดยคุณสมบัติและคุณภาพของอุปกรณ์ที่ผลิตโดยเทคโนโลยี CMOS นี้ จะมีความทนทาน ความแม่นยำ และมีอายุการใช้งานที่ยาวนานกว่าอุปกรณ์ที่ใช้เทคโนโลยีที่ต่ำกว่า รวมถึงสามารถออกแบบอุปกรณ์ให้เหมาะสำหรับการใช้วัดค่าความชื้นสัมพัทธ์อากาศ หรือสามารถปรับใช้วัดค่าความชื้นแบบต่างๆ ได้ตามความต้องการของผู้ใช้งาน เหมาะสมกับสภาพการใช้งานในหลายๆรูปแบบในประเทศไทย

Solar Tracker Sensor เป็นการนำ pnp โฟโตทรานซิสเตอร์มาต่อกันเป็นอาเรย์ โดยใช้ติดตั้งเข้ากับแผงโซล่าเซลล์ หรือระบบทำความร้อนจากแสงอาทิตย์ เพื่อปรับมุมของระบบเหล่านั้นให้ตั้งฉากกับดวงอาทิตย์ ซึ่งจะส่งผลให้ได้พลังงานเอาท์พุทสูงสุดอยู่เสมอ

ISFET (Ion-Sensitive Field Effect Transistor) เป็นอุปกรณ์สารกึ่งตัวนำสร้างขึ้นด้วยเทคโนโลยีกระบวนการผลิต CMOS โดยหลักการทำงานพื้นฐานอุปกรณ์ ISFET เมื่อต่อร่วมกับขั้วไฟฟ้าอ้างอิง Ag/AgCl จากภายนอก สามารถตรวจวัดปริมาณไฮโดรเจนไอออนหรือค่าพีเอชได้ทันที

เซ็นเซอร์ตรวจวัดความดัน (Pressure Sensor) เป็นอุปกรณ์ตรวจวัดความดันของก๊าซหรือเหลว โดยเซ็นเซอร์จะส่งสัญญาณทางไฟฟ้าที่มีความสัมพันธ์กับความดัน สำหรับเซนเซอร์ของ TMEC คือ รุ่น TMPSI เป็นเซนเซอร์ที่มีโครงสร้าง แบบ piezo-resistive micro-machine pressure sensor ซึ่งมีความแม่นยำสูง และการตอบสนองเป็นเชิงเส้นดี สามารถวัดระดับแรงดันได้ในช่วง 0-10 bars และ 0-15 bars

โจทย์วิจัย/ความท้าทาย

สร้างระบบนิเวศน์ของอุตสาหกรรมเทคโนโลยีในประเทศไทย โดยร่วมมือกับพันธมิตรในภาครัฐ และ เอกชน ทั้งภายใน และ ต่างประเทศ โดยสุดท้ายแล้วจะถ่ายทอดองค์ความรู้ทางด้านการ ผลิต พัฒนา และ วิจัย ให้กับ ผู้ประกอบการขนาดเล็กและขนาดกลางในประเทศ เพื่อให้เกิดห่วงโซ่มูลค่า โดยอาศัยการทำงานและผลักดันผ่านเทคโนโลยีดังนี้

Pre-production ของ อุปกรณ์เมมส์ (MEMS) อันได้แก่ Si Microphones และ Si MEMS Gyroscope และต้นแบบอื่นๆ ตาม `Roadmap และความสามารถของทีเมค (ทีมวิจัยที่ดูแล : SIFRT)
ISFET based Chemical and Bio-sensor Array Platform ที่สามารถรองรับ Sensing Membranes ต่างๆ เพื่อตอบโจทย์อุตสาหกรรม (ทีมวิจัยที่ดูแล : SIFRT)
ISFET based Handheld Device Production ที่ได้รับการใช้งานในอุตสาหกรรมเกษตร สิ่งแวดล้อมและการแพทย์ (ทีมวิจัยที่ดูแล : SIFRT)
Microfluidic Device Platform เพื่อตอบโจทย์การตรวจสอบการติดพยาธิเท้าช้างในเลือดสำหรับแรงงานจากพม่า ได้ตามความต้องการของโรงพยาบาลที่ต้องตรวจเลือดจำนวนมาก (ทีมวิจัยที่ดูแล : SMD-1RT)
ต้นแบบสำหรับสร้างลวดลายจุลภาคบนพื้นผิวขนาดใหญ่ (Large-area Patterning) (ทีมวิจัยที่ดูแล : SMD-1RT)
โครงการพัฒนาบุคลากรสำหรับอุตสาหกรรมการออกแบบวงจรรวม (ทีมวิจัยที่ดูแล : DSCRT)

ทีมวิจัยภายใต้สังกัด

ติดต่อ

ศูนย์เทคโนโลยีไมโครอิเล็กทรอนิกส์
51/4 หมู่ 1 ตำบลวังตะเคียน
อำเภอเมือง จังหวัดฉะเชิงเทรา 24000
อีเมล : info-tmec[at]nectec.or.th
โทรศัพท์ : +66 (0)38-857-100 ต่อ 0
https://tmec.nectec.or.th

ทีมวิจัยนวัตกรรมพื้นผิววัสดุและอุปกรณ์ไมโครฟลูอิดิก

dtmd-saw — Fri, 01 Mar 2019 08:20:47 +0000

ทีมวิจัยนวัตกรรมพื้นผิววัสดุและอุปกรณ์ไมโครฟลูอิดิก (SMD-1 RT) เป็น 1 ใน 3 ทีมวิจัยของศูนย์เทคโนโลยีไมโครอิเล็กทรอนิกส์ (TMEC) ภายใต้การกำกับดูแลของศูนย์เทคโนโลยีอิเล็กทรอนิกส์และคอมพิวเตอร์แห่งชาติ (เนคเทค) สังกัดสำนักงานพัฒนาวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีแห่งชาติ (สวทช.) ที่มุ่งเน้นการวิจัย พัฒนา ออกแบบ วิศวกรรม (RDDE) และการวิเคราะห์พื้นผิววัสดุด้วยเทคโนโลยีขั้นสูง เพื่อผลักดันให้เกิดการพัฒนากำลังคน (HRD) การสร้างเครือข่ายวิจัยทั้งในและต่างประเทศ (Research networking) การสร้างผลิตภัณฑ์นวัตกรรมในเชิงพาณิชย์ (Commercial products) และระบบนิเวศน์ (Ecosystem) สำหรับเทคโนโลยีพื้นผิววัสดุและอุปกรณ์ไมโครฟลูอิดิกอย่างยั่งยืน

วิสัยทัศน์

เป็นพันธมิตรทางด้านวิจัย พัฒนา ออกแบบ วิศวกรรม และการวิเคราะห์พื้นผิววัสดุด้วยเทคโนโลยีขั้นสูง เพื่อผลักดันให้เกิดการพัฒนากำลังคน การสร้างเครือข่ายวิจัยทั้งในและต่างประเทศ อันนำไปสู่การสร้างผลิตภัณฑ์นวัตกรรมในเชิงพาณิชย์และการสร้างระบบนิเวศน์ สำหรับเทคโนโลยีพื้นผิววัสดุและอุปกรณ์ไมโครฟลูอิดิกอย่างยั่งยืน

พันธกิจ

มุ่งสร้างสรรค์นวัตกรรม พัฒนากำลังคน และสร้างเครือข่ายวิจัยทั้งในและต่างประเทศ เพื่อผลักดันให้เกิดผลิตภัณฑ์และระบบนิเวศน์ สำหรับเทคโนโลยีพื้นผิววัสดุและอุปกรณ์ไมโครฟลูอิดิกอย่างยั่งยืน

เทคโนโลยีหลัก

ทีมวิจัยนวัตกรรมพื้นผิววัสดุและอุปกรณ์ไมโครฟลูอิดิก (SMD-1 RT) เป็น 1 ใน 3 ทีมวิจัยของศูนย์เทคโนโลยีไมโครอิเล็กทรอนิกส์ ซึ่งดำเนินงานวิจัยร่วมกับทีมวิจัยเชิงอุตสาหกรรมบนซิลิกอนเทคโนโลยี (Silicon Industrial Fabrication Research Team ชื่อย่อ: SIFRT) และทีมวิจัยการออกแบบวิเคราะห์และประเมินผลการทำงานของอุปกรณ์จากกระบวนการผลิต (Design, Simulation, Characterization, and Circuit Design Research Team, ชื่อย่อ: DSCRT) โดยใช้เครื่องจักรที่เกี่ยวข้องในกระบวนการผลิตอุปกรณ์สารกึ่งตัวนำ ของศูนย์เทคโนโลยีไมโครอิเล็กทรอนิกส์ ซึ่งติดตั้งอยู่ภายในห้องสะอาดระดับ 100 ด้วยเทคโนโลยีการผลิตที่สอดคล้องกับกระบวนการผลิตอุปกรณ์สารกึ่งตัวนำชนิดซีมอส บนแผ่นฐานซิลิกอนเวเฟอร์ขนาดเส้นผ่านศูนย์กลาง 6 นิ้ว

ทั้งนี้กิจกรรมวิจัยของทีม SMD-1 RT จะประกอบด้วยเทคโนโลยีหลัก 4 ชนิด ได้แก่

กระบวนการถ่ายแบบลายวงจรขั้นสูง (Advance lithography process)
แพลตฟอร์มนวัตกรรมเทคโนโลยีพื้นผิววัสดุ (Surface innovation technology platform)
แพลตฟอร์มเทคโนโลยีระบบของไหลจุลภาค (Microfluidic technology platform)
เทคโนโลยีขั้นสูงสำหรับการตรวจสอบคุณสมบัติและการวิเคราะห์พื้นผิววัสดุ (Advance material characterizations and surface analysis)

1. กระบวนการถ่ายแบบลายวงจรขั้นสูง (Advance lithography process)

การออกแบบและสร้างลวดลายจุลภาคบนแผ่นกระจกต้นแบบ (Photomask fabrication)
การเคลือบฟิล์มบางชนิดต่างๆ เช่น SiO2, Si3N4, Poly-Si, a-Si, TEOS, SOG, Al, Ti, TiN
การกัดลวดลายด้วยสารเคมีและพลาสมา (Chemical and plasma etching)
การสร้างแม่แบบซิลิกอนและแม่แบบพอลิเมอร์ (Mold fabrication)
การหล่อพอลิเมอร์จากแม่แบบซิลิกอน (Soft lithography process)
การสร้างลวดลายจุลภาคระดับนาโนเมตร ด้วยเทคนิค Sidewall Image Transfer (SIT), เทคนิคการเล็มลวดลายน้ำยาไวแสง (Photoresist trimming process) และเทคนิคการถ่ายแบบลายวงจรหลายครั้ง (Multiple-patterning process)
กระบวนการสร้างลวดลายจุลภาค 3 มิติ (3D lithography) ด้วยเทคนิคเกรย์สเกลลิโธรกราฟี (Greyscale lithography) และเทคนิคการใช้กระจกต้นแบบที่มีโครเมียมหลายความหนา (Multi-film thickness mask, Thailand Patent no. 64545)

2. แพลตฟอร์มนวัตกรรมเทคโนโลยีพื้นผิววัสดุ (Surface innovation technology Platform)

การพัฒนาวัสดุผสมที่มีค่าพลังงานเชิงผิวต่ำ (Composite materials with low-surface energy)
การพัฒนาพื้นผิวลื่นบนวัสดุที่มีรูพรุน (Slippery Liquid-Infused Porous Surfaces, SLIP)
กระบวนการลนไฟ (Frame treatment process)
การปรับเปลี่ยนคุณสมบัติของพื้นผิว (Surface functionalization)
การวิเคราะห์โมเลกุลของสสาร (Molecular analysis)
พื้นผิวน้ำและน้ำมันไม่เกาะแบบยิ่งยวด (Superoleophobic surface)
พื้นผิวป้องกันการเกาะของสิ่งมีชีวิต (Anti-fouling surface)
การสร้างลวดลายจุลภาคบนพื้นที่ขนาดใหญ่ (Large-area patterning) ด้วยกระบวนการ Roll-to-Roll (R2R process) และ Roll-to-Plate (R2P process)

*วิจัยและพัฒนาร่วมกับหน่วยงานต่างประเทศ

3. แพลตฟอร์มเทคโนโลยีระบบของไหลจุลภาค (Microfluidic technology platform)

อุปกรณ์ไมโครฟลูอิดิก (Microfluidic device) ชนิดห้องปฏิบัติการบนชิป (Lab-on-a-chip, LOC), ห้องปฏิบัติการบนแผ่นดิสก์ (Lab-on-a-disc, LOD) และระบบอวัยวะจำลองบนชิป (Organ-on-a-chip, OOC)
Micro-droplet devices (cell sorting/cell trapping/cell culturing)
การเชื่อมด้วยพลาสมา (Plasma bonding) และการตัดด้วยเลเซอร์ (Laser cutting)
การฉีดพลาสติก (Injection molding) *วิจัยและพัฒนาร่วมกับหน่วยงานต่างประเทศ

4. เทคโนโลยีขั้นสูงสำหรับการตรวจสอบคุณสมบัติและการวิเคราะห์พื้นผิววัสดุ (Advance material characterizations and surface analysis)

Field-emission Scanning Electron Microscope (FE-SEM) with Energy Dispersive X-ray Spectroscope (EDX) and X-ray Fluorescence (XRF)
Auger Electron Spectroscopy (AES)
Contact angle goniometer
Spectrophotometer
Ellipsometer
Film stress measurement
Step profilometer

การให้บริการและให้คำแนะนำ

กระบวนการออกแบบและสร้างลวดลายจุลภาคบนพื้นผิวต่างๆ
การพัฒนาพื้นผิวให้มีคุณสมบัติน้ำและน้ำมันไม่เกาะแบบยิ่งยวด
กระบวนการออกแบบและสร้างอุปกรณ์ไมโครฟลูอิดิก ห้องปฏิบัติการย่อส่วนบนชิป ห้องปฏิบัติการย่อส่วนบนแผ่นดิสก์ และระบบจำลองการทำงานของอวัยวะบนชิป
การตรวจสอบคุณสมบัติและการวิเคราะห์พื้นผิววัสดุด้วยเทคนิคต่างๆ
หลักสูตรฝึกอบรมบุคลากรในหัวข้อต่างๆที่เกี่ยวข้องกับเทคโนโลยีสารกึ่งตัวนำ

ผลงานวิจัยในปัจจุบัน

Surface innovation technology platform
1. โครงการวิจัยเฟล็กซ่า (Large-area Flexible Polymers with Antifouling Robust Micro-structure, FleXARs) เพื่อสร้างชั้นฟิล์มขนาดใหญ่ที่มีพื้นผิวที่สิ่งมีชีวิตชนิดต่างๆไม่เกาะ (Everything-free surface) สำหรับประยุกต์ใช้งานในสภาวะทะเล การแพทย์ ระบบขนส่งมวลชนสาธารณะ อุตสาหกรรมอาหาร วัสดุก่อสร้าง และธุรกิจพลังงาน เช่น พื้นผิวทำความสะอาดตนเอง พื้นผิวป้องกันการเกาะของแบคทีเรียและสิ่งมีชีวิตต่างๆ เป็นต้น
2. โครงการพัฒนาเทคโนโลยีพื้นผิวลื่น (Slippery Liquid-Infused Porous Surface, SLIPS) เพื่อสร้างเป็นพื้นผิวป้องกันสิ่งมีชีวิตเกาะและพื้นผิวทำความสะอาดตนเองได้
3. โครงการวิจัย High-contrast Marking Vehicle Tire เพื่อพัฒนาเทคโนโลยีลวดลายจุลภาคที่มีค่าการสะท้อนแสงต่ำมาก (Ultra-low light reflectivity micro-structure) สำหรับประยุกต์ใช้งานในชิ้นส่วนยานพาหนะและอุปกรณ์เชิงแสง
Microfluidic Technology Platform
1. Cell sorting/cell trapping/cell culturing สำหรับระบบตรวจและคัดแยกเซลล์ก่อมะเร็ง (Cancer Stem Cell, CSC)
2. ระบบ Micro-droplet generator and diagnostic assay สำหรับการทดลองทางชีววิทยาแบบรวดเร็วในปริมาณมาก
3. ห้องปฏิบัติการบนแผ่นดิสก์ (LOD) สำหรับการตรวจคัดกรองพยาธิโรคเท้าช้างแบบกึ่งอัตโนมัติ (Semi-automated Microfilaria Detection System, AMS)
4. ห้องปฏิบัติการบนแผ่นดิสก์ (LOD) สำหรับการตรวจวัดคุณภาพน้ำนมวัวดิบ (Raw milk quality monitoring system)
5. เทคโนโลยีการพัฒนาแบบจำลองเนื้อเยื่อลำไส้บนชิป (Gut-on-Chip) โดยเทคโนโลยีระบบของไหลจุลภาค เพื่อการศึกษาด้านพิษวิทยาและเภสัชจลนศาสตร์ของอุตสาหกรรมอาหาร ยา และอื่นๆ
รายชื่อวารสารวิชาการ
– ผลงานตีพิมพ์ด้านนวัตกรรมพื้นผิววัสดุ และกระบวนการถ่ายแบบลายวงจร
1. J. Jantawong, et.al., “The study on 3-D microstructure fabrication with gray-scale lithography technique”, Ladkrabang Eng. J., 25 (2), pp. 42-46 (2007).
2. N. Atthi, et.al., “Study of optimization condition for spin coating of the photoresist film on 3 inches wafer by Taguchi design of experiment”, Khon kaen Univ. Res. J., 13 (3), pp. 347-352 (2008).
3. N. Atthi, et.al., “3-dimensionals lithography techniques for air bearing surface patterning in hard-disk drive reading/writing head manufacturing”, Khon kaen Univ. Res. J., 13 (3), pp. 353-359 (2008).
4. N. Atthi, et.al., “Chemical resistant improvement of natural rubber and nitride gloves by coating with hydrophobic film”, Adv. Mater. Res., 55-57, pp. 741-744 (2008).
5. N. Atthi, et.al., “Study of optimization condition for spin coating of the photoresist film on rectangular substrate by Taguchi design of an experiment”, Songklanakarin J. Sci. Technol., 31(3), pp. 331-335 (2009).
6. O. Nimittrakoolchai, et.al., “Parameter optimization by using a Taguchi’s method for deposition water-repellent film”, Mineral. Met. Mater. Soc., pp. 1185-1190 (2009).
7. N. Atthi, et.al., “An effect of viscosity of coating materials on silicon micro-patterning arrays for superhydrophobic surface”, Adv. Mater. Res., 93-94, pp. 447-450 (2010).
8. N. Atthi, et.al., “Improvement of photoresist film coverage on high topology surface with spray coating technique”, J.Microsc. Soc. Thailand, 24 (1), pp. 42-46 (2010).
9. N. Atthi, et.al., “An effect of silicon micro-patterning arrays on superhydrophobic surface”, J. Nanosci. Nanotechnol., 11, pp. 1-7 (2011).
10. N. Atthi, et.al., “Fabrication of ultra-hydrophobic surface with low reflectance using black silicon nanostructures”, NECTEC Tech. J., (22), pp. 180-185 (2010).
11. N. Chathirat, et.al., “A micro-grating sensor for DNA hybridization and antibody HSA-antigen HSA interaction experiments”, Jpn. J. Appl. Phys. 50 (1s2), p. 01BK01 (2010).
12. N. Atthi, et.al., “Increasing active surface area to fabricate ultra-hydrophobic surface by using “Black silicon” with Bosch etching process”, J. Nanosci. Nanotechnol, 12, pp. 1-9, (2012).
13. N. Atthi, et.al., “Effect of black silicon pillar height on water repellent and surface reflectance”, J. Microsc. Soc.Thailand, 4 (1), pp. 32-35, (2011).
14. P. Pholprasit, et.al., “Pattern transfer characterization after double-level lithography for a fabrication of the 3-D AlTiC air bearing surface of the hard disk slider”, Jpn. J. Appl. Phys., 51 (6s), p. 06FF08 (2012).
15. N. Atthi, et.al., “Trimming lithography: The alternative technology for sub-resolution and sub-wavelength patterning”, ECTI Trans. Electric. Eng., Electron. Commun.,10 (2), pp. 198-207 (2012).
16. N. Siwarakrangsun, et.al., “Fabrication of Multi-level photoresist patterns in one-step lithography by using Cr/Ni Multi-film thickness mask,” Adv. Mater. Res., 658, pp. 93-96 (2013).
17. C. Viphavakit, et.al., “Development of integrated microfluidic device for optical flow rate sensing”, J. Circuit Syst. Comp., 22, p. 1340016 (2013).
18. C. Viphavakit, et.al., “Realization of a polymer nanowire optical transducer by using the nanoimprint technique”, Appl. Optics. 53 (30), p. 1 (2014).
– ผลงานตีพิมพ์ด้านแพลตฟอร์มเทคโนโลยีไมโครฟลูอิดิก
1. Phuakrod, et.al., “Diagnosis of feline filariasis assisted by a novel semi-automated microfluidic device in combination with high resolution melting real-time PCR”, Parasites & Vectors (2019).
2. D. Ketpun , et.al., “A Potential Application of Triangular Microwells to Entrap Single Cancer Cells: A Canine Cutaneous Mast Cell Tumor Model” , Micromachines 10, 841 (2019).
3. T. Tongmanee, et.al., “Effects of the cell and triangular microwell size on the cell-trapping efficacy and specificity”, J. Mechanical Sci. Technol. 33 (11) pp.5571-5580 (2019).
4. T. Suwannaphan, et.al., “Investigation of Leukocyte Viability and Damage in Spiral Microchannel and Contraction-Expansion Array”, Micromachines 10, 772 (2019).
5. D. Tantraviwat, et.al., “Highly dispersed porous polydimethylsiloxane for boosting power-generating performance of triboelectric nanogenerators”, Nano Energy (2019).
6. P. Inpota, et.al., “Chemiluminescence detection with microfluidics for innovative in situ measurement of unbound cobalt ions in dynamic equilibrium with bound ions in binding study with polyethyleneimine and its functionalized nanoparticles”, Talanta, (2018).
7. P. Inpota, et.al., “Microfluidic Analysis with Front-Face Fluorometric Detection for the Determination of Total Inorganic Iodine in Drinking Water”, Jpn. Soc. for Analytical Chem., (2018).
8. D. Ketpun, et.al., “The Viability of Single Cancer Cells after Exposure to Hydrodynamic Shear Stresses in a Spiral Microchannel”, Micromachines 9(1), (2017).
9. A. Thanormsridetchai, et.al., “Focusing and sorting of multiple-sized beads and cells using low-aspect-ratio spiral microchannels”, J. Mechanical Sci. Technol. 31, (2017).
– ผลงานตีพิมพ์ด้านเทคโนโลยีชีวภาพ
1. P. Saengdee, et.al., “Surface modification of silicon dioxide, silicon nitride and titanium oxynitride for lactate dehydrogenase immobilization”, Biosens Bioelectron, 67, 134-138 (2015).
2. P. Saengdee, et.al., “A silicon nitride ISFET based immunosensor for Ag85B detection of tuberculosis”, Analyst, 141(20), 5767-5775 (2016).
3. P. Saengdee, et.al., “Optimization of 3-aminopropyltriethoxysilane functionalization on silicon nitride surface for biomolecule immobilization”, Talanta, 207, 120305 (2020).
รายชื่อสิทธิบัตร
1. N. Atthi et.al., “Micropallette to holding micro-workpieces by using photolithography process”, Thailand patent (Granted no. 73809), January 2020.
2. N. Atthi, et.al., “Chromium/nickel multi-film thickness mask for three-dimensional microstructure fabrication”, Thailand patent (Granted no. 64545), 2018.
3. N. Atthi, et.al., “Photoresist 3D structures formation by varying dose technique from a single light source”, Thailand patent (Pending no. 0701001176), March 2007.
4. N. Atthi et.al., “Multi-Film Thickness Mask, MFT-Mask”, Thailand patent (Pending no. 0701002029), April 2007.
5. N. Atthi, et.al., “Chemical-adhesive protective gloves”, Thailand patent (Pending no. 0801003347), June 2008.
6. N. Atthi, et.al., “Self-forming microlens by using a deflection of that film”, Thailand patent (Pending no. 0901001917), April 2009.
7. O.Trithaveesak, et.al., “Fabrication of planar chemical reference micro-electrode”, Thailand patent (Pending no. 0901002164), May 2009.
8. N. Atthi, et.al., “Biosensor arrays fabricated by thin film layer on silicon opaque substrate”, Thailand patent (Pending no. 0901003142), July 2009.
9. N. Atthi, et.al., “Laminating an adhesive film on deep-trench substrate for holding it on a vacuum handling system”, Thailand patent (Pending no. 0901003316), July 2009.
10. N. Atthi, et.al., “Increasing a surface roughness with pentagonal and octagonal micro-pattern arrays for superhydrophobic surface”, Thailand patent (Pending no. 0901003706), July 2009.
11. J. Supadech, et.al., “Fabrication of water and oil-repellant with a high reflectivity surface by using black silicon”, Thailand patent (Pending no. 1001001270), August 2010.
12. N. Atthi, et.al., “Method to make a photoluminescence on silicon nano-pillar”, Thailand patent (Pending no. 1001001708), November 2010.
13. K. Saejok, et.al., “Method and process step to make a cavity for silicon surface membrane sensor”, Thailand patent (Pending no. 1101000088), April 2011.
14. N. Atthi, et.al., “Increasing the pattern density and surface area by using trimming lithography”, Thailand patent (Pending no. 1101001717), August 2011.
15. S. Boonruang, et.al., “Sub-diffraction limited diffractive optical elements”, Thailand patent (Pending no. 1201000867), January 2012.
16. N. Atthi, et.al., Antifouling Materials and Method of Fabrication Therefor”, Thailand patent (Pending no. 1701003836), July 2016.
17. N. Atthi, et.al., “Anti-fouling materials with robust microstructures”, Thailand patent (Pending no. 1801005675), August 2018.
18. N. Atthi, et.al., “Anti-fouling materials with robust guard-ring microstructures”, Thailand patent (Pending no. 1801005676), August 2018.
19. N. Atthi, et.al., “Antifouling Robust Microstructure”, Thailand patent (Pending no. 1802004081), August 2018.
20. N. Atthi, et.al., “Robust Microstructure with Guard Ring Pattern”, Thailand patent (Pending no. 1802004082), August 2018.
21. P. Pattamang, et.al., “Lab-on-disc for substance separation and characterization”, Thailand patent (Pending no. 1902004384), November 2019.
22. N. Atthi, et.al., “Antifouling Robust Microstructure on Material Surface”, Thailand petty patent (Pending no. 1903002291), September 2019.
23. K. Saejok, et.al., “Superhydrophobic Electrical Conductivity Probe”, Thailand petty patent (Pending no. 1903002439), September 2019.

บุคลากรและความเชี่ยวชาญ

ดร.นิธิ อัตถิ (หัวหน้าทีมวิจัย) : กระบวนการผลิตอุปกรณ์สารกึ่งตัวนำบนซิลิกอน โครงสร้างสามมิติของชั้นฉนวน/เกตโลหะ และการสร้างพื้นผิวป้องกันการเกาะของสิ่งมีชีวิต
นายวิศรุต ศรีพุ่มไข่ (ผู้ช่วยนักวิจัยอาวุโส) : นาโนเทคโนโลยี อุปกรณ์ไมโครฟลูอิดิก ห้องปฏิบัติการย่อส่วนบนชิปและบนแผ่นดิสก์ และการสร้างพื้นผิวป้องกันการเกาะของสิ่งมีชีวิต)
นางสาวภัทรลักษณ์ ปัถมัง (ผู้ช่วยนักวิจัย) : นาโนเทคโนโลยี อุปกรณ์ไมโครฟลูอิดิก ห้องปฏิบัติการย่อส่วนบนชิปและบนแผ่นดิสก์ และการสร้างพื้นผิวป้องกันการเกาะของสิ่งมีชีวิต
งสาวอรพรรณ ทองสุข (เจ้าหน้าที่ห้องปฏิบัติการ) : การตรวจสอบคุณสมบัติและการวิเคราะห์พื้นผิววัสดุ และห้องปฏิบัติการทดสอบและสอบเทียบ ด้วยเทคนิค FE-SEM, EDX, XRF, AES และ Contact angle goniometer
นางสาวรัตนาวรรณ เมนะเนตร (ผู้ช่วยนักวิจัยอาวุโส) : กระบวนการผลิตอุปกรณ์สารกึ่งตัวนำบนซิลิกอน ไมโคร/นาโนเทคโนโลยี กระบวนการโฟโตลิโธรกราฟี, เซนเซอร์ชนิดต่างๆ
ดร. ภาวศุทธิ แสงดี (นักวิจัยหลังปริญญาเอก) : การตรึงพื้นผิววัสดุด้วยสารชีวโมเลกุล เทคนิคการวิเคราะห์โมเลกุลและคุณสมบัติของวัสดุ เซนเซอร์ (Electrochemical device, Quartz Crystal Microbalance (QCM))
นายนรบดี ราญรอน (ผู้ช่วยนักวิจัย) : อุปกรณ์ไมโครฟลูอิดิก ห้องปฏิบัติการย่อส่วนบนชิปและบนแผ่นดิสก์
นางสาวกฤณรัศมิ์ ปานคง (ผู้ช่วยนักวิจัย) : ระบบสื่อสาร, AutoCAD, MATLAB, LabVIEW, C++
นางสาววรินรำไพ เอื้อชินกุล (ผู้ช่วยนักวิจัย) : นาโนเทคโนโลยี , วัสดุนาโน, การใช้เครื่องมือ FE-SEM, HPLC, AF4, DLS, UV-Vis Spectrophotometer, Contact angle goniometer

ติดต่อ

อีเมล: tmec-smd@nectec.or.th
โทร: 038-857100 ต่อ 124, 125, 307, 312
เว็บไซต์: https://tmec.nectec.or.th/home/index/lang/eng

ทีมวิจัยเชิงอุตสาหกรรมบนซิลิกอนเทคโนโลยี (SIFRT)

dtmd-saw — Fri, 01 Mar 2019 08:05:07 +0000

ทีมวิจัยเชิงอุตสาหกรรมบนซิลิกอนเทคโนโลยี หรือในชื่อย่อ “SIFRT” สังกัดหน่วยวิจัยศูนย์เทคโนโลยีไมโครอิเล็กทรอนิกส์ (TMEC) มีความร่วมมือในงานวิจัยและพัฒนากับหน่วยงานวิจัย สถาบันศึกษา ภาคเอกชนทั้งในประเทศ และระดับนานาชาติ อาทิ โครงการร่วมวิจัยพัฒนา Silicon microchannel heat exchanger ระหว่าง TMEC-ALICE/CERN โครงการรับจ้างวิจัยพัฒนากระบวนการผลิตโครงสร้างระดับจุลภาค Silicon mold ให้กับบริษัทเอกชน เป็นต้น ทีมวิจัยเชิงอุตสาหกรรมบนซิลิกอนเทคโนโลยี ประกอบด้วย 3 กลุ่มวิจัย ดังนี้

Silicon Process Technology Team (SPT) : กลุ่มวิจัยที่มีความรู้ ทักษะ ความเชี่ยวชาญทางด้านเทคโนโลยีกระบวนการการผลิตซีมอส-เมมส์ (CMOS-MEMS microfabrication technologies) รวมทั้งประสบการณ์เฉพาะสำหรับการปฏิบัติงานจริงกับเครื่องจักรต่างๆ ในคลีนรูม (Cleanroom) เป็นอย่างดี
ISFET Team (IST) : กลุ่มวิจัยที่มีความรู้ ทักษะ ความเชี่ยวชาญทางด้านเทคโนโลยี ISFET หรือ Ion sensitive field effect transistor ที่ใช้เป็นแพลตฟอร์มของการพัฒนาอุปกรณ์เซ็นเซอร์ที่เรียกว่า เคมีคอลเซนเซอร์ และ ไบโอเซนเซอร์
MEMS Team (MEMST) : กลุ่มวิจัยที่มีความรู้ ทักษะ ความเชี่ยวชาญทางด้านการออกแบบ วิเคราะห์โครงสร้างด้วยการจำลองการทำงาน (Simulation modeling) และการสร้างอุปกรณ์เซ็นเซอร์ และเมมส์ด้วยเทคโนโลยีกระบวนการการผลิตซีมอส-เมมส์ (CMOS-MEMS fabrication technologies) รวมทั้งกระบวนการต่างๆ ที่เกิดหลังการผลิตในระดับเวเฟอร์ (Wafer level) เช่น การประกอบตัวถังชิพ (Packaging chip) การทดสอบคุณสมบัติ-ฟังก์ชั่นทางไฟฟ้าต่างๆ (Electrical properties and functional testing) การทดสอบความน่าเชื่อถือ (Reliability) และคุณลักษณะ (Qualification) ของต้นแบบเซ็นเซอร์และเมมส์ที่สร้างขึ้นเพื่อผลักดันให้เป็นผลิตภัณฑ์เชิงพาณิชย์

วิสัยทัศน์

ส่งเสริม สนับสนุนให้เกิดการศึกษาวิจัย พัฒนา การถ่ายทอด และการประยุกต์ใช้เทคโนโลยีที่เกี่ยวข้องกับกระบวนการผลิตอุปกรณ์ประเภทเซ็นเซอร์ (Sensors) เมมส์ (MEMS) รวมทั้งโครงสร้างจุลภาค (Micro-structures) ต่างๆ ลงบนซับสเตรท (Substrate) หรือแผ่นฐานที่เป็นซิลิกอน (Silicon) ด้วยเทคโนโลยีการผลิตซีมอส-เมมส์ (CMOS-MEMS fabrication technologies) เพื่อก้าวไปสู่การพัฒนาต่อยอดสู่นวัตกรรมและเทคโนโลยีใหม่ๆ ในอนาคต และมุ่งไปสู่เป้าหมายสูงสุด คือ การสร้างอุตสาหกรรมไมโครอิเล็กทรอนิกส์ต้นน้ำในประเทศไทยอย่างเป็นรูปธรรม และแข่งขันได้กับนานาชาติ

พันธกิจ

วิจัย พัฒนา และผลิตอุปกรณ์ประเภทเซ็นเซอร์ (Sensors) เมมส์ (MEMS) รวมทั้งโครงสร้างจุลภาค (Micro-structures) ต่างๆ ลงบนซับสเตรท (Substrate) หรือแผ่นฐานที่เป็นซิลิกอน
วิจัย พัฒนา และผลิตแพลตฟอร์มสำหรับเซ็นเซอร์ด้านเคมี (Chemical sensors) และเซ็นเซอร์ด้านชีวภาพ (Biosensors)
ส่งเสริมให้เกิดระบบนิเวศ (Ecosystem) ของอุปกรณ์เซ็นเซอร์และเมมส์ขั้นสูง (Advanced sensors and MEMS) ภายในประเทศไทย

เทคโนโลยีหลัก

1. เทคโนโลยีการผลิตซีมอสและเมมส์ (CMOS-MEMS fabrication technologies) ที่ใช้สำหรับการสร้างอุปกรณ์เซ็นเซอร์ (Sensors) เมมส์ (MEMS) และโครงสร้างจุลภาค (Micro-structures) ชนิกต่างๆ ลงบนซับสเตรท (Substrate) หรือแผ่นฐานที่เป็นซิลิกอน (Silicon)
2. เทคโนโลยี ISFET หรือ Ion sensitive field effect transistor เป็นแพลตฟอร์มของการพัฒนาเซ็นเซอร์ทำให้เกิดอุปกรณ์ที่เรียกว่า เคมีคอลเซนเซอร์ และไบโอเซนเซอร์ สร้างโดยอาศัยเทคนิคทางด้านการตรึงฟิล์มที่จำเพาะกับสารที่ต้องการวัดบนชั้นซิลิกอนไนไตรด์ ซึ่งเป็นเกทไดอิเล็กทริกของ ISFET ตัวอย่างต้นแบบและงานวิจัยเซ็นเซอร์ด้วยเทคโนโลยี ISFET เช่น ไนเตรทเซนเซอร์ (Nitrate Sensor) ดีเอนเอไบโอเซ็นเซอร์ (DNA biosensor) และ เซ็นเซอร์ตรวจวัดหาเชื้อวัณโรค (TB sensor) เป็นต้น

ผลงานเด่น

การพัฒนา photonic array biosensor และ ISFET-based sensors เพื่อการตรวจวัดสารพิษจากเชื้อรา [2018-ปัจจุบัน]
ผลงานต้นแบบ “Handheld real time ISFET based Nitrate” ได้รับรางวัลเหรียญเงิน (Silver Medal Award) จากเวทีประกวดสิ่งประดิษฐ์ 2017 Taipei International Invention Show & Technomart Invention Contest จัดที่ Taipei World Trade Center ระหว่างวันที่ 28-30 กันยายน 2560 ณ เมืองไทเป ไต้หวัน [2017]
การพัฒนาอิมมูโนเซนเซอร์ (Immunosensor) ที่อาศัยเทคนิคการวัดระดับความเข้มข้นของไอออน (Ion-sensitive field-effect transistor- หรือ ISFET) ชนิดที่มี sensing membrane เป็นซิลิกอนไนไตรต์ (Silicon nitride) สำหรับการตรวจหาเชื้อ Ag85B ของวัณโรค [2016]
การพัฒนาเซ็นเซอร์ยูเรียที่ไม่เกี่ยวข้องกับเอนไซม์โดยใช้พื้นผิวโพลิเมอร์โพลีเมอร์ที่ถูกดัดแปลงสภาพให้เหมาะสำหรับการตรึงชั้นฟิล์มดังกล่าวลงบนโครงสร้าง ISFET (Ion-sensitive field-effect transistor) เซ็นเซอร์ [2016]
การพัฒนาต้นแบบของเซ็นเซอร์ไนเตรตที่ทนทานโดยเทคนิคการปรับสภาพพื้นผิว รวมถึงการเร่งผลักดันให้เกิดต้นแบบเชิงพาณิชย์ในอนาคต [2016-ปัจจุบัน]
การพัฒนาเทคนิคการตรวจวัดคุณภาพจุลินทรีย์ methanogens ในระบบบำบัดน้ำเสียแบบไร้อากาศ [2016-ปัจจุบัน]
การพัฒนาต้นแบบเซ็นเซอร์วัดความดัน (Pressure sensor) ชนิดเปียโซรีซิสทีป (Piezo-resistive) โดยใช้กระบวนการผลิตซีมอส-เมมส์ในระดับไมครอนบนซับสเตทชนิดซิลิกอน เซ็นเซอร์นี้สามารถใช้วัดระดับความดันในช่วง 0-30 บาร์ ทำให้สามารถประยุกต์ใช้งานด้านต่างๆ ทั้งในภาคการเกษตร อุตสาหกรรม การแพทย์ เป็นต้น และการออกแบบพัฒนาต้นแบบเซ็นเซอร์วัดความดันที่สูงขึ้นถึงระดับ 50 บาร์สำหรับการใช้งานเฉพาะทางในอนาคตอันใกล้ [2013-ปัจจุบัน]
การพัฒนากระบวนการผลิตหัววัด/เซ็นเซอร์ความดันเพื่อใช้กับสายวัดแรงดันในหลอดเลือดหัวใจ (Pressure wire) ซึ่งเป็นผลิตภัณฑ์ของบริษัท RADI Medical Systems AB ประเทศสวีเดน (ปัจจุบันได้ควบรวมกิจการกับบริษัท Saint Jude Medical ในสหรัฐอเมริกา) เพื่อช่วยในการตรวจวัดความดันในหลอดเลือดหัวใจสำหรับผู้ป่วยที่เป็นโรคเส้นเลือดหัวใจตีบได้อย่างแม่นยำ โดยทำการพัฒนาต้นแบบหัววัดความดันโลหิตในเส้นเลือดจนถึงส่งมอบผลิตภัณฑ์เชิงพาณิชย์จำนวน 400,000 หัววัด รวมทั้งหมด 5 รุ่น [2004-2013]
การพัฒนากระบวนการผลิต (Fabrication) สำหรับการสร้างต้นแบบซิลิกอนเมมส์ไมโครโฟน (Si MEMS microphone) รุ่นแรก โดยโครงสร้างเมมส์ไมโครโฟนมีไดอะแฟรม (Diaphragms) หรือ เมมเบรน (Membrane) ทำหน้าที่เป็นตัวรับคลื่นเสียง ซึ่งทำมาจากฟิล์มซิลิกอนบางๆ ที่มีคุณภาพสูงและมีโครงสร้างจุลภาคแบบอิพิแทกเซียล (Epitaxially grown silicon) และ รุ่นที่สองมีโครงสร้างไดอะแฟรมที่สร้างจากฟิล์มบางโพลีซิลิกอน (Polysilicon) [2015-ปัจจุบัน]
การพัฒนากระบวนการผลิตเมมส์ และสร้างต้นแบบไจโรสโคปรุ่นแรก [2019–ปัจจุบัน, สถานะอยู่ระหว่างขั้นตอนการพัฒนาร่างข้อเสนอโครงการร่วมกับบริษัทเอกชน/สตาร์ทอัพ]

บุคลากรและความเชี่ยวชาญ

I. Silicon Process Technology Team (SPT)
- นาย จักรพงศ์ ศุภเดช (หัวหน้ากลุ่มวิจัย) : เมมส์ไมโครโฟน (MEMS microphone), การพัฒนากระบวนการผลิตด้วยเทคโนโลยีซีมอส-เมมส์ (CMOS-MEMS process integration), การกัดด้วยไอสารเคมีชนิดพลาสม่า (Plasma etching: RIE, ICP & Si DRIE)
- นาย นิมิต สมหวัง : กระบวนการการยิงฝังประจุ (Ion-implantation), กระบวนการกัดด้วยสารเคมี (WET chemical etching)
- นางสาว รัตนาวรรณ เมนะเนตร : กระบวนการการสร้างลวดลายวงจรรวม (Photo-lithography), การออกแบบ และสร้างลวดลายวงจรรวมบนกระจกต้นแบบ (Mask/reticle design, layout and tape-out)
- นาย อาคม ศรีหาเพท : กระบวนการการสร้างฟิล์มบางด้วยไอสารเคมีชนิด พลาสม่า (Plasma enhanced chemical vapor deposition, PECVD), การออกแบบและสร้างสิ่งประดิษฐ์สามมิติ (3D-printing design and modeling)
- นาย เอกชัย ชุ่มมะโน : กระบวนการทำความสะอาดแผ่นซิลิคอนเวเฟอร์ (Wafer cleaning), กระบวนการกัดด้วยสารเคมี (WET chemical etching)
II. ISFET Team (IST)
- นายวิน บรรจงปรุ (หัวหน้ากลุ่มวิจัย) : เทคโนโลยีฐาน ISFET สำหรับการประยุกต์ใช้ทางเคมีและชีวภาพ (ISFET platform for chemical and biological applications), การพัฒนากระบวนการผลิตด้วยเทคโนโลยีซีมอส-เมมส์ (CMOS-MEMS process integration), การเคลือบฟิล์มบางแบบสปัตเตอริง (Sputtering)
- นายวรพันธุ์ ไชยศรีรัตนากุล : เทคโนโลยีการสร้างเมมเบรนสำหรับตรวจวัดด้วยวัสดุพอลิเมอร์ (Polymer sensing membrane technologies)
- นายอวิรุธิ์ ศรีสุวรรณ์ : การสร้างขั้วไฟฟ้าอ้างอิงชนิดของแข็ง (Planar solid state reference electrode), กระบวนการกัดด้วยไอสารเคมีชนิดพลาสมา (Plasma etching – RIE)
- นายอภิรักษ์ ผันเขียว : การควบคุมคุณภาพอุปกรณ์ ISFET (Quality control of ISFET devices), กระบวนการกัดด้วยสารเคมี (WET chemical etching), กระบวนการออกแบบและสร้างลวดลายวงจรรวมบนกระจกต้นแบบ (Photolithography)
- นายณัฐพัชร์ ธรณ์ญาณาเดชา : เทคโนโลยีการประกอบตัวถังอุปกรณ์วงจรรวม เซ็นเซอร์และเมมส์ขั้นสูง (Advanced integrated circuits (ICs), sensors and MEMS packaging technologies)
- นายสมเกียรติ แก้วหน่อ : การเคลือบฟิล์มบางแบบสปัตเตอริง (Sputtering)
- คุณปัญญสิริย์ ธาดาวรวิทย์ : กระบวนการกัดด้วยไอสารเคมีชนิดพลาสมา (Plasma etching – RIE)
III. MEMS Team (MEMST)
- นส. หวานจิตร รัตนสนธิ (หัวหน้ากลุ่มวิจัย) : เมมส์ไมโครโฟน (MEMS microphone), เซ็นเซอร์วัดความดัน (Pressure Sensor), เมมส์ไจโรสโคป (MEMS Gyroscope), ตัวเก็บเกี่ยวพลังงานระดับจุลภาค เช่น พลังงานจากความร้อน การสั่นสะเทือน (Micro-energy harvesting devices e.g., thermal, vibration), กระบวนการผลิตระดับจุลภาคสำหรับไอออนแทรพชิพ (Microfabrication ion trap chips), กระบวนการผลิตด้วยเทคโนโลยีซีมอส-เมมส์, การวิเคราะห์และทดสอบสมบัติต่างๆ ของผลิตภัณฑ์ด้วยเทคนิคต่างๆ รวมทั้งการหาสาเหตุของการเกิดของเสีย (CMOS-MEMS fabrication process, device characterization and failure analysis)
- นายพุทธพล เพ็งพัด : เซ็นเซอร์วัดความชื้นที่ผลิตด้วยเทคโนโลยีซีมอส-เมมส์ CMOS-MEMS รุ่นที่มีไมโครฮีตเตอร์ในตัว (CMOS-MEMS humidity sensor integrated with micro heater) และรุ่นที่มีชั้นฟิล์มบางกราฟีนที่ช่วยให้คุณสมบัติเชิงเส้นของการ sensing ดีขึ้น (Graphene-based humidity sensor for linearity improvement of sensing curves), เซ็นเซอร์วัดแรงดัน (Pressure sensor), กระบวนการให้ความร้อนและลดความร้อนแบบรวดเร็ว (Rapid thermal processing, RTP)
- นายการุณ แซ่จอก : เซ็นเซอร์วัดความดัน (Pressure sensor), กระบวนการยิงฝังประจุ (Ion-implantation)
- นายเอกลักษณ์ เชาว์วิชารัตน์ : เมมส์ไมโครโฟน (MEMS microphone), เซ็นเซอร์วัดความดัน (Pressure sensor), เมมส์ไจโรสโคป (MEMS Gyroscope), เซ็นเซอร์วัดความเร่ง (Accelerometer), กระบวนการผลิตด้วยเทคโนโลยีซีมอส-เมมส์ (CMOS-MEMS fabrication process)
- นายชนะ ลีภัทรพงศ์พันธ์ : เมมส์ไมโครโฟน (MEMS microphone), เซ็นเซอร์วัดความดัน (Pressure sensor), เซ็นเซอร์วัด สนามแม่เหล็ก (Magnetic sensor), กระบวนการทําออกซิเดชั่นแบบเปียก/แห้ง (Wet/Dry oxidation), กระบวนการสร้างชั้นฟิล์มบาง (Thin-film deposition), กระบวนการทำความสะอาดแผ่นซิลิคอนเวเฟอร์ (Wafer cleaning)
- นายวัชรพงค์ เผ่าสังข์ทอง : กระบวนการการสร้างลวดลายวงจรรวม (Photo-lithography), เทคโนโลยีการเก็บเกี่ยวพลังงาน (Energy harvesting technology) (*ลาศึกษาต่อต่างประเทศ)

TMEC – NECTEC : National Electronics and Computer Technology Center

สอวช. เยี่ยมชม TMEC หารืองานวิจัย Semiconductor ecosystem

ศูนย์เทคโนโลยีไมโครอิเล็กทรอนิกส์ (TMEC)

วิสัยทัศน์

พันธกิจ

เทคโนโลยีของหน่วยวิจัย

ผลิตภัณฑ์

โจทย์วิจัย/ความท้าทาย

ทีมวิจัยภายใต้สังกัด

ติดต่อ

ทีมวิจัยนวัตกรรมพื้นผิววัสดุและอุปกรณ์ไมโครฟลูอิดิก

สารบัญ

วิสัยทัศน์

พันธกิจ

เทคโนโลยีหลัก

1. กระบวนการถ่ายแบบลายวงจรขั้นสูง (Advance lithography process)

2. แพลตฟอร์มนวัตกรรมเทคโนโลยีพื้นผิววัสดุ (Surface innovation technology Platform)

3. แพลตฟอร์มเทคโนโลยีระบบของไหลจุลภาค (Microfluidic technology platform)

4. เทคโนโลยีขั้นสูงสำหรับการตรวจสอบคุณสมบัติและการวิเคราะห์พื้นผิววัสดุ (Advance material characterizations and surface analysis)

การให้บริการและให้คำแนะนำ

ผลงานวิจัยในปัจจุบัน

บุคลากรและความเชี่ยวชาญ

ติดต่อ

ทีมวิจัยเชิงอุตสาหกรรมบนซิลิกอนเทคโนโลยี (SIFRT)

สารบัญ

วิสัยทัศน์

พันธกิจ

เทคโนโลยีหลัก

ผลงานเด่น

บุคลากรและความเชี่ยวชาญ